GCIB技術の特徴や仕組みについてご説明します。

弊社では、これまで成膜技術で培った真空のノウハウや、薄膜で得た経験を活かし、薄膜の受託加工サービスに加えて、GCIB(ガスクラスターイオンビーム)による『表面改質』の受託加工サービスを始めました。

※対象物の材質、サイズ、形状等によりますので、お電話またはお問合せ一覧から、一度ご相談ください。

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GCIBとは

GCIB(ガスクラスターイオンビーム)とは、対象物の表面の凹凸を、ナノレベルで平坦化させる技術です。

真空中で1,000個単位のAr原子が集まったクラスター(塊)をイオン化・加速させ、対象物に衝突させます。高エネルギーで衝突させたArクラスターは、対象物の表面でクレーターの様に衝突痕が発生します。この衝突を対象物の表面で繰り返すことで「表面改質」が可能となります。

それにより、3~10nmの面粗度を1nm程度まで平坦化する事が可能となります。

照射前:Ra=3.3nm 照射後:Ra=0.93nm 照射前:Ra=17.5nm 照射後:Ra=0.90nm
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表面平坦化の基本プロセス

GCIB処理における基本プロセスを右図に記します。

簡単にご説明いたしますと、プロセスは以下の通りです。

  • チャンバーに対象物をセット
  • チャンバー内を真空排気
  • 一定の真空度に達したら原料ガス(Ar)を導入
  • 原料ガス(Ar)をイオン化させる
  • イオン化させたAr原子のクラスターを加速させる
  • 対象物に繰り返し衝突させる
原料ガス(Ar)がGCIB装置チャンバー内でイオン化。加速されたAr原子が対象物に衝突する
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GCIB装置スペック

対応基板

SUS材やガラス基板等、材質に制約はございませんが、樹脂フィルム等は照射による熱が若干高くなる為、別途ご相談ください。

対応サイズ

標準的な対応サイズは200×200×t20(mm)となります。それ以上大きいものは別途ご相談下さい。

GCIB装置
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受付時間 月曜~金曜 8:30~17:30 TEL:048-989-2050